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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1998-0053231 (1998-12-05) |
공개번호 | 10-1999-0062820 (1999-07-26) |
등록번호 | 10-0331543-0000 (2002-03-25) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019980053231 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1998-12-05) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
챔버 내의 모든 부위를 세정할 수 있는 RF 플라즈마를 사용한 챔버 내부 세정방법에 대해 개시한다. 우선, 불순물들이 내부 표면에 도포되어 있는 챔버 내부를 안정화시킨다. 이어서, 챔버 내부의 압력을 연속적으로 변화시키거나 다단계로 변화시키면서 RF 플라즈마를 사용하여 챔버 내부를 세정한다.
(a) 세정에 의해 제거되어야 할 물질들이 내부 표면에 도포되어 있는 챔버 내부를 안정화시키는 단계; 및 (b) 상기 챔버 내부의 압력을 연속적으로 변화시키면서 RF 플라즈마를 사용하여 상기 챔버 내부를 세정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 RF 플라즈마를 사용하는 챔버 내부 세정방법.
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