최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC9판) |
|
출원번호 | 10-1999-0035682 (1999-08-26) |
공개번호 | 10-2001-0019336 (2001-03-15) |
등록번호 | 10-0541540-0000 (2005-12-30) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019990035682 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2004-05-18) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
반도체 제조공정의 플라즈마를 이용한 건식 식각시 구형 파티클 발생을 억제할 수 있도록 개선된 구조를 갖는 반도체 전 공정(前 工程) 장비의 정전 척(ESC; Electro Static Chuck)이 개시된다. 본 발명은 전위차에 의한 정전기를 이용하여 웨이퍼를 클램핑하는 정전 척(ESC)의 플랫존(Flatzone) 부위에서 발생하는 공정 불량 및 구형 파티클의 발생을 억제할 수 있도록 ESC가 전체적으로 둥글게 원형이 되도록 상기 플랫존 부위에 부도체를 접합시켜 구성된다. 또한, 상기 부도체에 의해 전체적으로 원형 구조를 갖는 ES
전위차에 의한 정전기를 이용하여 웨이퍼를 클램핑하는 정전 척(ESC; Electro Static Chuck)에 있어서,상기 ESC의 플랫존(Flatzone) 부위에서 발생하는 공정 불량 및 구형 파티클의 발생을 억제하기 위하여, 상기 ESC가 전체적으로 둥글게 원형이 되도록 상기 플랫존 부위에 부도체를 접합시켜 구성됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 정전 척(ESC).제1항에 있어서, 상기 부도체는,세라믹 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 정전 척(ESC).제1항에 있어서,ESC의 아크 발생(arcing)에 의한 손상을
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.