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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2001-0073969 (2001-11-26) |
공개번호 | 10-2003-0043013 (2003-06-02) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020010073969 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2001-11-26) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 챔버(chamber)의 내부에 장착되어 웨이퍼(wafer)의 파지 및 온도를 제어하는 정전척에 관한 것으로, 상기 웨이퍼보다 큰 면적을 가지는 냉각부와, 정전척전극이 각각 내장된 정전척 몸체와; 상기 정전척 몸체의 상부에 위치하여, 웨이퍼가 안착되는 상면에 소정의 그루브(groove) 패턴을 가지는 헬륨 유로판넬과; 상기 냉각부에 각각 냉각용매를 유입 및 유출하는 냉각용매 유입관 및 냉각용매 유출관과; 상기 정전척전극에 직류전압을 인가하는 직류 전압봉과; 상기 그루브 패턴에 각각 헬륨을 유입 및 유출하는 헬륨 유입관 및
챔버(chamber)의 내부에 장착되어 웨이퍼(wafer)의 파지 및 온도를 제어하는 정전척에 관한 것으로, 상기 웨이퍼보다 큰 면적을 가지는 냉각부와, 정전척전극이 각각 내장된 정전척 몸체와; 상기 정전척 몸체의 상부에 위치하여, 웨이퍼가 안착되는 상면에 소정의 그루브(groove) 패턴을 가지는 헬륨 유로판넬과; 상기 냉각부에 각각 냉각용매를 유입 및 유출하는 냉각용매 유입관 및 냉각용매 유출관과; 상기 정전척전극에 직류전압을 인가하는 직류 전압봉과; 상기 그루브 패턴에 각각 헬륨을 유입 및 유출하는 헬륨 유입관 및 헬륨 유출관
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