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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0014795 (2003-03-10) |
공개번호 | 10-2004-0079758 (2004-09-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030014795 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 포토레지스트 패턴의 프로파일 (PROFILE)을 개선시키기 위한 첨가제 및 이를 함유하는 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 포토레지스트 조성물에 첨가되는 하기 화학식 1의 암모늄염 화합물은 경사진 패턴 (BULK SLOPE)의 모양과, 패턴 아래 부분에 나타나는 푸팅 (FOOTING) 현상을 개선시킬 수 있다.[화학식 1]상기 식에서, X, Y, Z, R1, R2, R3 및 N 은 명세서에 정의된 바와 같다.
포토레지스트 패턴 프로파일을 개선하기 위한 하기 화학식 1의 암모늄염 첨가제.[화학식 1]상기 식에서,X 및 Y 는 각각 H, F, CL, F 또는 I 이고,Z는 CO 또는 SO2 이며,N 은 0 내지 20 중에서 선택되는 정수이고,R1, R2 및 R3 는 각각 수소이거나, 치환 또는 비치환된 C1-C20의 알킬기, 알콕시기, 에테르 또는 하이드록시 알킬 그룹이다.
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