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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0079330 (2003-11-11) |
공개번호 | 10-2005-0045311 (2005-05-17) |
등록번호 | 10-0549948-0000 (2006-02-01) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030079330 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2003-11-11) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
생산 수율 및 생산성을 높일 수 있는 반도체 제조설비의 청정시스템을 개시한다. 그의 시스템은 클린룸 내에서 청정 공기의 공급에 따라 작업영역과 서비스영역으로 나누어 관리되는 반도체 제조설비의 청정 시스템에 있어서, 상기 서비스영역에서 반도체 제조공정이 이루어지는 웨이퍼 프로세스영역과, 상기 웨이퍼 프로세스영역에 공간적으로 연결되며, 상기 작업영역에서 상기 웨이퍼 프로세스영역으로 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 이송영역과, 상기 웨이퍼 이송영역 및 상기 웨이퍼 프로세스영역에 청정공기를 공급하는 공기공급장치와, 상기 공기공급장치의 불량을 파악
클린룸내에서 청정 공기의 공급에 따라 작업영역과 서비스영역으로 나누어 관리되는 반도체 제조설비의 청정 시스템에 있어서, 상기 서비스영역에서 반도체 제조공정이 이루어지는 웨이퍼 프로세스영역과, 상기 웨이퍼 프로세스영역에 공간적으로 연결되며, 상기 작업영역에서 상기 웨이퍼 프로세스영역으로 웨이퍼를 이송하는 웨이퍼 이송영역과, 상기 웨이퍼 이송영역 및 상기 웨이퍼 프로세스영역에 청정공기를 공급하는 공기공급장치와, 상기 공기공급장치의
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