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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2003-0090320 (2003-12-11) |
공개번호 | 10-2005-0058073 (2005-06-16) |
등록번호 | 10-0790723-0000 (2007-12-24) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020030090320 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-02-09) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명의 반도체 장비용 진공 트랩은, 반도체 제조 공정의 공정 챔버 내에서 공정 진행 후 발생된 파우더를 효과적으로 트랩하여 진공 펌프의 부하를 줄이기 위한 것으로서, 공정 챔버와 진공 펌프를 연결하는 진공 라인에 구비되고 그 외곽으로 공정냉각수가 공급되는 트랩 본체, 및 이 트랩 본체 내에 다층으로 진공 펌프를 향하는 방향에 대하여 수직 방향으로 가스 통로를 형성하는 다수의 디스크 플레이트로 구성되어 있다.
공정 챔버와 진공 펌프를 연결하는 진공 라인에 구비되고 그 외곽으로 공정냉각수가 공급되는 트랩 본체, 및 상기 트랩 본체 내에 다층으로 진공 펌프를 향하는 방향에 대하여 수직 방향으로 가스 통로를 형성하는 다수의 디스크 플레이트를 포함하는 반도체 장비용 진공 트랩.
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