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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2012-0084662 (2012-08-02) | |
| 공개번호 | 10-2014-0017893 (2014-02-12) | |
| 등록번호 | 10-1366305-0000 (2014-02-14) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020120084662 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2012-08-02) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 소멸 |
본 발명은 반도체 공정 부산물 트랩 장치에 관한 것으로써, 내부가 중공이며, 상부에 배기 가스가 유입되는 유입구가 형성되고 하부가 개방되어 결합구가 형성되는 하우징과 상기 하우징의 결합구에 결합되는 하부 받침대와 상기 하부 받침대의 상부에 결합되어 상기 하우징의 내부에 위치하며, 상기 배기 가스가 충돌되도록 하여 파우더를 포집하는 트랩부 및 상기 트랩부의 상부에 위치하여 상기 배기 가스의 유동을 유발하는 유동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 부산물 트랩 장치에 관한 것이다.
내부가 중공이며, 상부에 배기 가스가 유입되는 유입구가 형성되고 하부가 개방되어 결합구가 형성되는 하우징과상기 하우징의 결합구에 결합되는 하부 받침대와상기 하부 받침대의 상부에 결합되어 상기 하우징의 내부에 위치하며, 상기 배기 가스가 충돌되도록 하여 파우더를 포집하는 트랩부 및 상기 트랩부의 상부에 위치하여 상기 배기 가스의 유동을 유발하는 유동부를 포함하며,상기 유동부는 내부가 중공이고 상부가 밀폐되고 하부가 개방되어 형성되며 측면에서 연장되어 형성되는 유동판을 구비하는 상부 꼬깔 및내부가 중공이고 상부와 하부가 개방되고 측면에
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