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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2004-0037385 (2004-05-25) |
공개번호 | 10-2005-0112333 (2005-11-30) |
등록번호 | 10-1142868-0000 (2012-04-27) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040037385 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-04-22) |
심사진행상태 | 등록결정(심사전치후) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 포토레지스트 제거용 씬너 조성물에 관한 것으로, 특히 a) 알킬렌글리콜 모노알킬 에테르 아세테이트 1 내지 80 중량부; b) N-메틸 아세트 아마이드, 디메틸 아세트 아마이드로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 알킬 아마이드 1 내지 98 중량부; 및 c) 알킬 에타노에이트 1 내지 80 중량부로 이루어지는 포토레지스트 제거용 씬너 조성물에 관한 것이다.본 발명의 포토레지스트 제거용 씬너 조성물은 액정 디스플레이 디바이스에 사용되는 글라스 기판 및 반도체 제조에 사용되는 웨이퍼의 가장자리와 후면 부위에 사용되어
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