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연합인증

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고순도 인듐 제조 방법 및 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C22B-058/00
출원번호 10-2004-0085679 (2004-10-26)
공개번호 10-2006-0036629 (2006-05-02)
등록번호 10-0614890-0000 (2006-08-16)
DOI http://doi.org/10.8080/1020040085679
발명자 / 주소
  • 우상모 / 경기 고양시 일산구 마두동 *** **통 *반 강촌마을 ***-***
  • 선우정호 / 경기도 성남시 분당구 구미동 무지개마을 ***-****
  • 송규영 / 인천시 연수구 연수*동 대림아파트 ***-***
출원인 / 주소
  • (주)나인디지트 / 인천광역시 남동구 논현동 ***-* 남동공단 ** 블럭 ** 롯트
대리인 / 주소
  • 특허법인코리아나 (Koreana Patent Firm)
  • 서울특별시 강남구 역삼동 ***-**
심사청구여부 있음 (2004-10-26)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 액정 디스플레이의 투명 도전막에 사용되는 ITO(INDIUM TIN OXIDE) 타겟의 원재료가 되는 인듐을 고순도화하는 정제 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 주석이 주요 불순물로 함유되어 있는 조인듐을 고순도로 정제함에 있어 주석의 분리 효율 및 생산성이 종래의 수용액 전해 대비 최소한 3배 이상 향상된 용융염 전해 정련에 관한 것으로 조인듐을 양극으로 사용하고 일염화인듐 또는 일염화인듐과 염화아연의 복합 화합물을 전해질로 사용하여 전해질의 녹는점 이상의 온도에서 전해 정련을 행하여

대표청구항

일염화인듐(INCL)을 용융염 전해질로 사용하는 용융염 전해에 의해 인듐을 고순도로 정제하는 것을 특징으로 하는 고순도 인듐 제조 방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 인듐 제조방법 | 우상모

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. [한국] 전해환원장치 및 방법 | 허진목, 홍순석, 최은영, 이창화
  2. [한국] 용융염 전해 정련 장치 | 박경태, 김택수, 최상훈, 이현규, 심재진, 임재홍
  3. [한국] 용융염 전해 정련 방법 | 박경태, 최상훈, 이현규, 심재진, 임재홍
  4. [한국] 복합용융염 전해정련법을 이용한 고순도 인듐의 회수방법 | 박정진, 고정현, 김태진, 황수현, 심종길
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