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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2004-0085679 (2004-10-26) |
공개번호 | 10-2006-0036629 (2006-05-02) |
등록번호 | 10-0614890-0000 (2006-08-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040085679 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-10-26) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 액정 디스플레이의 투명 도전막에 사용되는 ITO(INDIUM TIN OXIDE) 타겟의 원재료가 되는 인듐을 고순도화하는 정제 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 주석이 주요 불순물로 함유되어 있는 조인듐을 고순도로 정제함에 있어 주석의 분리 효율 및 생산성이 종래의 수용액 전해 대비 최소한 3배 이상 향상된 용융염 전해 정련에 관한 것으로 조인듐을 양극으로 사용하고 일염화인듐 또는 일염화인듐과 염화아연의 복합 화합물을 전해질로 사용하여 전해질의 녹는점 이상의 온도에서 전해 정련을 행하여
일염화인듐(INCL)을 용융염 전해질로 사용하는 용융염 전해에 의해 인듐을 고순도로 정제하는 것을 특징으로 하는 고순도 인듐 제조 방법.
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