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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2004-0098016 (2004-11-26) |
등록번호 | 10-0497413-0000 (2005-06-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040098016 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-11-26) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 텅스텐-화학적 기계적 연마(CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, CMP) 에 유용한 슬러리 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 콜로이달 실리카(COLLOIDAL SILICA)를 주제로 한 텅스텐-CMP 슬러리 및 그 제조방법에 관한 것으로 본 발명의 텅스텐-CMP 슬러리는 철 또는 1가 이상의 금속이온을 환원법 또는 가수분해법, 함침법, 침전법 등에 의해 금속 입자의 형태로 변환시켜 콜로이달 실리카 입자에 화학적으로 흡착시킨 것을 특징으로 하는 텅스텐-CMP에 유용한 슬러리 및 그 제조방법에
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