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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2004-0101938 (2004-12-06) |
등록번호 | 10-0497411-0000 (2005-06-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040101938 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-12-06) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 균일한 큰 입자를 갖는 옥사이드 또는 STI-CMP에 유용한 콜로이달 실리카 슬러리 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 CMP에 사용하는 콜로이달 실리카를 주제로 한 균일한 큰 입자를 갖는 CMP에 유용한 콜로이달 실리카 슬러리 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 120㎚이상의 큰 입자 크기를 제조하여도 입도분포가 균일하고, 입자크기가 크기 때문에 종래의 기존 연마 슬러리는 연마제의 함량이 12.5 중량%에서 연마가 가능하지만 본 발명의 연마 슬
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