[특허]실리콘 웨이퍼 에지 연마용 콜로이달 실리카 슬러리

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[한국특허] 실리콘 웨이퍼 에지 연마용 콜로이달 실리카 슬러리 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)	C09K-003/14
출원번호	10-2010-0019600 (2010-03-04)
공개번호	10-2011-0100548 (2011-09-14)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020100019600
발명자 / 주소	김문성 / 경상북도 경산시 중산동 태왕한라아파트 *-호 박철진 / 대구광역시 수성구 매호동 시지우방하이츠 -호 홍창진 / 경상북도 경산시 중산동 태왕한라아파트 -호 김규수 / 경상북도 경산시 정평동 태왕귀빈아파트 -호 안상민 / 경기도 평택시 도일동 번지 김혜진 / 부산광역시 남구 대연동 대성아파트 ***호
출원인 / 주소	(주)에이스나노켐 / 경북 경산시 자인면 북사리 자인지방산업단지 ***-
대리인 / 주소	특허법인 아주양헌
심사청구여부	있음 (2010-03-04)
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록 ▼

본 발명은 연마용 콜로이달 실리카 슬러리에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 실리식산에 수산화알칼리를 반응시켜 제조되며, 비구형 형태를 갖는 콜로이달 실리카를 포함하여 연마 효율이 높은 실리콘 웨이퍼 에지 연마용 콜로이달 실리카 슬러리 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 콜로이달 실리카 슬러리는 비구형 형태, 50~100nm의 평균입자크기 및 울퉁불퉁한 표면을 갖는 콜로이달 실리카를 포함하여 분산 안정성이 뛰어나고 낮은 실리카 농도로도 높은 연마속도를 낼 수 있으며, 건조 겔 퇴적현상과 과도한 에칭현상을 방지할 수 있는 특

대표청구항

실리식산에 수산화알칼리를 반응시켜 제조되며, 비구형 형태를 갖는 콜로이달 실리카를 포함하는 연마용 콜로이달 실리카 슬러리.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

[한국] 균일한 큰 입자를 갖는 화학적 기계적 연마에 유용한콜로이달 실리카 슬러리 및 그 제조방법 | 정석조, 김창훈, 조굉래, 변정환, 배선윤, 박철진
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[일본] POLISHING AGENT AND POLISHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER | KASHIMA YOSHIYASU, TAKAGI HIROYUKI, OSAWA NORIKAZU
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IPC 상위 출원인

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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