[특허]포커스 링을 냉각하는 냉각 유로를 가지는 웨이퍼지지장치

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포커스 링을 냉각하는 냉각 유로를 가지는 웨이퍼지지장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/3065
출원번호	10-2004-0100359 (2004-12-02)
공개번호	10-2006-0061572 (2006-06-08)
등록번호	10-0674922-0000 (2007-01-22)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020040100359
발명자 / 주소	최민웅 / 경기 용인시 기흥읍 상갈리 *번지 금화마을 주공그린빌 동 ***호
출원인 / 주소	삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 매탄동 ***
대리인 / 주소	리앤목특허법인; 이해영 (Y.P.LEE, MOCK&PARTNERS) 서울 서초구 서초동***-번지 고려빌딩(리앤목 특허법인); 서울 서초구 서초동***-(리앤목 특허법인)
심사청구여부	있음 (2004-12-02)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	소멸

초록

포커스 링을 냉각하는 냉각 유로를 가지는 웨이퍼지지장치를 제시한다. 본 발명에 따르면, 플라즈마 가공될 웨이퍼를 지지하는 제1상면 및 웨이퍼의 측부에 도입되는 포커스 링(FOCUS RING) 아래에 대응되는 제2상면을 가지는 몸체, 및 몸체 내에 설치되되 제1상면의 영역 내에 위치하여 웨이퍼를 냉각하는 냉각 제1유로, 및 제2상면의 영역 내에 위치하여 포커스 링을 냉각하여 웨이퍼의 가장자리부분의 냉각 효과를 강화하는 냉각 제2유로를 포함하는 냉각 유로를 포함하여 웨이퍼지지장치를 구성할 수 있다.

대표청구항

가공될 웨이퍼를 지지하는 제1상면 및 상기 웨이퍼의 측부에 도입되는 포커스 링(FOCUS RING) 아래에 대응되는 제2상면을 가지는 몸체; 및 상기 몸체 내에 설치되되 상기 제1상면의 영역 내에 위치하여 상기 웨이퍼를 냉각하는 냉각 제1유로, 및 상기 제2상면의 영역 내에 위치하여 상기 포커스 링을 냉각하는 냉각 제2유로를 포함하는 냉각 유로를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 가공 장비의 웨이퍼지지장치.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

[일본] PLACING DEVICE OF BODY TO BE TREATED | KOSHIISHI AKIRA, HIMORI SHINJI
상세보기

이 특허를 인용한 특허 (2)

[한국] 기판 지지 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치 | 정상곤, 이경호, 박혜정
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[한국] 반도체 제조설비용 정전척 | 김현찬
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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