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[한국특허] 균일한 큰 입자를 갖는 화학적 기계적 연마에 유용한콜로이달 실리카 슬러리 및 그 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C09K-003/14
출원번호 10-2004-0101938 (2004-12-06)
등록번호 10-0497411-0000 (2005-06-16)
DOI http://doi.org/10.8080/1020040101938
발명자 / 주소
  • 정석조 / 대구 달서구 송현*동 ****-*
  • 김창훈 / 경북 칠곡군 석적면 남율리 우방신천지아파트 ***-****
  • 조굉래 / 경북 구미시 오태동 행복아침 ***-****
  • 변정환 / 경북 경산시 사동 부영그린마을 ***-****
  • 배선윤 / 대구 남구 대명동 ****-*** 효동아파트 ***
  • 박철진 / 경북 경산시 중산동 태왕한라아파트 ***-****
출원인 / 주소
  • 에이스하이텍 주식회사 / 경기 광주군 초월면 늑현리 **-**
대리인 / 주소
  • 백승준 (a)
  • 부산 중구 중앙동*가 **-* 경남빌딩 *층 ***호(신태양국제특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2004-12-06)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 균일한 큰 입자를 갖는 옥사이드 또는 STI-CMP에 유용한 콜로이달 실리카 슬러리 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 CMP에 사용하는 콜로이달 실리카를 주제로 한 균일한 큰 입자를 갖는 CMP에 유용한 콜로이달 실리카 슬러리 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 120㎚이상의 큰 입자 크기를 제조하여도 입도분포가 균일하고, 입자크기가 크기 때문에 종래의 기존 연마 슬러리는 연마제의 함량이 12.5 중량%에서 연마가 가능하지만 본 발명의 연마 슬

대표청구항

대표청구항이 없습니다.

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  1. [한국] 콜로이드 실리카의 제조방법 | 장윤호, 이한철, 김종협

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  1. [한국] 반도체 연마용 슬러리 제조 방법 및 반도체 연마 방법 | 임진혁, 강현구, 안정훈, 임성진, 채광기
  2. [한국] 실리콘 웨이퍼 에지 연마용 콜로이달 실리카 슬러리 | 김문성, 박철진, 홍창진, 김규수, 안상민, 김혜진
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