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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2004-0118274 (2004-12-31) |
공개번호 | 10-2006-0079011 (2006-07-05) |
등록번호 | 10-0639029-0000 (2006-10-19) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020040118274 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2004-12-31) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 수율 분석 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 인라인에서 검사 및 리뷰 데이터를 추출하는 단계, 수율 손실과 결함품 다이의 상관 관계 그래프를 추출하는 단계, 샘플의 수를 늘려서 각 추출된 그래프에 검사 데이터를 누적 표시하여 2차원 추세선을 추출하는 단계, 상기 누적된 데이터에서 추출된 2차원 추세선의 기울기를 추출하는 단계로 이루어짐에 기술적 특징이 있다. 따라서, 본 발명의 수율 분석 방법은 DEFECT TYPE별, INSPECTION LAYER별, WAFER별 불량품 다이를 게산하여
수율 분석 방법에 있어서, (가) 인라인에서 검사 및 리뷰 데이터를 추출하는 단계; (나) 수율 손실과 결함품 다이의 상관 관계 그래프를 추출하는 단계; (다) 샘플의 수를 늘려서 각각의 추출된 그래프에 검사 데이터를 누적 표시하여 2차원 추세선을 추출하는 단계; 및 (라) 상기 누적된 데이터에서 추출된 2차원 추세선의 기울기를 추출하는 단계 를 포함하는 것을 특징으로 하는 수율 분석 방법.
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