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연합인증

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진공 라인의 막힘을 방지하기 위한 반도체 제조 설비 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/205
  • H01L-021/02
출원번호 10-2005-0011307 (2005-02-07)
공개번호 10-2006-0090094 (2006-08-10)
DOI http://doi.org/10.8080/1020050011307
발명자 / 주소
  • 이현종 / 경기 수원시 영통구 원천동 **-**번지 ***호
  • 한천수 / 경기도 수원시 팔달구 매탄동 주공그린빌아파트 ***동 ***호
  • 박현동 / 경기 용인시 기흥읍 삼성전자(주) 기흥공장 남자기숙사 마로니에동 ***호
출원인 / 주소
  • 삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 매탄동 ***
대리인 / 주소
  • 송윤호; 권혁수; 임창현 (Song, Yun HO)
  • 서울특별시 강남구 역삼동 ***-** *층 고려국제특허법률사무소; 서울 강남구 역삼동 ***-** *층(고려국제특허법률사무소); 서울 강남구 역삼동 ***-** *층 (고려국제특허법률사무소)
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명은 진공 라인의 막힘을 방지하기 위한 반도체 제조 설비에 관한 것이다. 기존의 박막 증착 설비는 공정 진행시, 진공 라인에 파우더가 생성되어 진공 라인이 막혀서 공정 진행을 중지하고 진공 라인을 분리 후, 세정한 다음 재설치하여야 했다. 이 경우, 진공 라인 분리 작업에 소요 시간이 많이 걸리고, 감전, 화상 또는 쇼트 등의 위험 요소가 많아서 작업시에도 많은 주의를 기울여야 한다. 본 발명의 반도체 제조 설비는 진공 라인에 진공 호스 포트를 구비하고, 진공 라인이 파우더에 의해 막혔을 경우, 진공 호스 포트의 엔드 캡

대표청구항

반도체 제조 설비에 있어서: 공정 챔버와 트랩 사이에 구비되는 진공 라인 및; 상기 진공 라인에 발생되는 파우더를 제거하기 위해 상기 진공 라인에 구비되는 진공 호스 포트를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 설비.

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