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TFT-LCD 공정 PFC 및 부산물의 효과적인 제거에 관한 연구 원문보기


반순희 (연세대학교 공학대학원 환경공학전공 국내석사)

초록
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반도체 및 LCD 제조공정에 사용되는 가스 중 NF3 및 SF6는 국제적으로 배기 중 배출량에 대한 규제를 실시하는 온실가스이다. TFT-LCD CVD공정에서는 PFC(과불 화합물; Perfluorinated compounds), 기타 독성 및 부식성 가스들을 단독 또는 혼합 형태로 사용하고 있다.본 연구는 CVD공정에서 사용하고 있는 PFC 및 부산물의 1차 처리시스템과 2차 처리시스템에서 백연과의 상관관계를 확인하고, 현재 적용 중인 처리시스템의 최종 배출구에서 배출되는 백연을 효과적으로 포집, 처리하는 방법을 확인하고자 하였다. 본 연구를 통해 CVD공정의 1차 처리시스템의 종류에 따른 PFC 및 부산물 처리효율을 확인하였으며, 2차 처리시스템의 백연 발생 주요원인을 확인하였다. 2차 처리시스템에서의 백연제어를 위해 10CMM 규모의 하전액적 스크러버를 설치하여, 모의실험 하였다. 실험 결과, 실제 0.3㎛~1.0㎛크기의 먼지 입자를 90% 이상 제거함으로써 백연 발생문제를 해결할 수 있음을 확인하였다.본 연구 결과를 TFT-LCD공정 중 CVD공정의 대기방지시설 설계에 적용함으로써 온실가스의 배출량을 줄이고, 백연 등의 유해물질의 배출 억제와 저감이 가능할 것으로 판단된다.핵심되는 말:TFT-LCD, CVD, PFC, 백연 제어, ...

주제어

#백연 제어 미세입자 전기집진 세정집진 정전유도체 하전액적 스크러버 TFT-LCD CVD PFC white smoke control fine particles electric dust collecting water type dust collecting static derivatives electric charge liquid scrubber 

학위논문 정보

저자 반순희
학위수여기관 연세대학교 공학대학원
학위구분 국내석사
학과 환경공학전공
지도교수 고광백
발행연도 2010
총페이지 v, 54장
키워드 백연 제어 미세입자 전기집진 세정집진 정전유도체 하전액적 스크러버 TFT-LCD CVD PFC white smoke control fine particles electric dust collecting water type dust collecting static derivatives electric charge liquid scrubber
언어 kor
원문 URL http://www.riss.kr/link?id=T11987905&outLink=K
정보원 한국교육학술정보원
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