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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2005-0120276 (2005-12-09) |
등록번호 | 10-0692420-0000 (2007-03-02) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020050120276 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2005-12-09) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 챔버의 내측에서부터 외곽에 이르기까지 더욱 균일한 플라즈마 밀도분포를 이룰 수 있도록 안테나의 구조를 개선한 것인 바, 일단에 RF전원이 인가되는 파워드 엔드가 형성되고 타단은 접지된 적어도 2개의 안테나가 전기적으로 병렬로 설치되고, 각 안테나의 파워드 엔드와 그라운드 엔드는 안테나의 중심에 대하여 대칭위치에 배치되며, 각 안테나에는 상하천이부가 존재하여 안테나의 파워드 엔드와 그라운드 엔드는 챔버에서 먼 위치에 배치되고 각 안테나의 중간 부분은 챔버에서 가까운 위치에 오도록 상호 평행하게 교차설치되는 유도결합형 플라즈
일단에 RF전원이 인가되는 파워드 엔드가 형성되고 타단은 접지된 적어도 2개의 안테나가 전기적으로 병렬로 설치되고, 각 안테나의 파워드 엔드와 그라운드 엔드는 안테나의 중심에 대하여 대칭위치에 배치되며, 각 안테나에는 상하천이부가 존재하여 각 안테나의 파워드 엔드와 그라운드 엔드는 챔버에서 먼 위치에 배치되고 각 안테나의 중간 부분은 챔버에서 가까운 위치에 오도록 상호 평행하게 교차설치되는 유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나에 있어서,상기 각 안테나(10,10')는 적어도 2개의 지선(10A,10B)(10'A,10'B)으로 분지
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