선택한 단어 수는 입니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
선택한 단어 수는 30입니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-2006-0001237 (2006-01-05) |
공개번호 | 10-2006-0080884 (2006-07-11) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060001237 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 TMAH 및 탄산염을 포함하는 레지스트 현상액으로부터 탄산염을 제거하는 방법, 장치 및 레지스트 현상액의 농도 관리방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명에 따르는 레지스트 현상액 중의 탄산염의 제거방법은, TMAH 및 탄산염을 포함하는 레지스트 현상액을 NF막으로 여과하는 여과 공정을 구비한다.
테트라메틸암모늄 하이드록사이드와 탄산염을 포함하는 레지스트 현상액을 NF막(NANOFILTRATION MEMBRANE)으로 여과하는 여과 공정을 구비하는, 레지스트 현상액 중의 탄산염의 제거방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.