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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0011856 (2006-02-07) |
등록번호 | 10-0682538-0000 (2007-02-07) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060011856 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-02-07) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 반도체 웨이퍼 세정설비 및 세정방법에 관한 것으로, 웨이퍼를 지지하는 웨이퍼 스테이지와; 웨이퍼가 대전되는 것을 억제하는 제1 세정액을 상기 웨이퍼에 스프레이 방식으로 분사하여 상기 웨이퍼로부터 파티클을 제거하는 제1 세정 유닛과; 웨이퍼의 표면을 친수화시키는 제2 세정액을 상기 웨이퍼에 제공하고 쿼츠 로드를 발진시켜 상기 제2 세정액을 진동시켜 상기 웨이퍼로부터 파티클을 제거하는 제1 세정 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따르면, 웨이퍼에 형성된 패턴의 손상이 없고 파티클의 역흡착 현상없이 웨이퍼 표면으로부터
웨이퍼를 지지하는 웨이퍼 스테이지와;웨이퍼가 대전되는 것을 억제하는 제1 세정액을 상기 웨이퍼에 스프레이 방식으로 분사하여 상기 웨이퍼로부터 파티클을 제거하는 제1 세정 유닛과;웨이퍼의 표면을 친수화시키는 제2 세정액을 상기 웨이퍼에 제공하고 쿼츠 로드를 발진시켜 상기 제2 세정액을 진동시켜 상기 웨이퍼로부터 파티클을 제거하는 제2 세정 유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정설비.
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