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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0048766 (2006-05-30) |
등록번호 | 10-0766303-0000 (2007-10-05) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060048766 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-05-30) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 고압가스 열처리를 위한 방법 및 장치에 관한 것으로, 상세하게는 이중벽 챔버 구조를 가지는 열처리 챔버로, 잠재적으로 유독하고 가연성인 가스를 내부챔버에 한정되고, 고압의 비활성가스로 보호받는 외부챔버로 구성되어 있으며, 유입가스 이송장치와 배기가스 배출시스템은 다양한 방법에 의해 보호받는 것을 특징으로 하는 것으로서, 본 발명은 반도체 제조 공정에서 고유전율(high-K) 게이트 절연막 열처리, 후 금속화 소결 열처리 및 성형가스 열처리에 대한 고압의 수소/중수소 공정의 응용으로 장치에 확실한 성능개선을 달성할 수 있
비금속재로 만들어지고, 100% 순농도의 수소, 중수소, 불소, 염소 및 암모니아 중 적어도 하나를 포함하는 첫 번째 가스의 첫 번째 압력을 유지하기 위해 설계된 내부챔버와;금속재로 만들어지고, 상기 내부챔버를 포함하며, 상기 내부챔버의 외부에서 비활성가스를 포함하는 두 번째 가스의 두 번째 가스압력을 유지하기 위해 설계된 외부챔버;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고압 열처리에 사용되는 장치.
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