[특허]반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법

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반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)	H01L-021/027
출원번호	10-2006-0057950 (2006-06-27)
공개번호	10-2008-0000280 (2008-01-02)
등록번호	10-1120167-0000 (2012-02-17)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020060057950
발명자 / 주소	김서민 / 서울시 노원구 하계동 *번지 미성아파트 동 ****호
출원인 / 주소	주식회사 하이닉스반도체 / 경기도 이천시 부발읍 경충대로 ****
대리인 / 주소	이정훈; 특허법인태평양
심사청구여부	있음 (2010-11-29)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	소멸

초록

본 발명은 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법에 관한 것으로, 에지부에 형성되는 더미 패턴의 피치를 조절하여 1차 및 2차 노광 및 현상 공정으로 형성되는 상기 더미 패턴의 스페이스 영역이 서로 중첩되도록 하여 2번의 노광 공정 시 더미 패턴이 공유되어 블록(Block)의 크기를 감소시킬 수 있는 기술을 개시한다.

대표청구항 ▼

반도체 기판 상부에 폴리실리콘층 및 제 1 더미 패턴이 구비된 제 1 감광막 패턴을 형성하는 단계;상기 제 1 감광막 패턴을 마스크로 상기 폴리실리콘층을 식각한 후 제 1 감광막 패턴을 제거하는 단계;상기 식각된 폴리실리콘층 상부에 제 2 더미 패턴이 구비된 제 2 감광막 패턴을 형성하되, 상기 제 2 더미 패턴의 에지부가 상기 제 1 더미 패턴의 에지부와 중첩되도록 형성하는 단계; 및상기 제 2 감광막 패턴을 마스크로 상기 폴리실리콘층을 식각한 후 제 2 감광막 패턴을 제거하여 폴리실리콘층 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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