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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-0081926 (2006-08-28) |
공개번호 | 10-2007-0050799 (2007-05-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060081926 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-08-28) |
심사진행상태 | 포기(등록료 미납) |
법적상태 | 포기 |
엑시머 레이저 어닐링을 이용하여 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽을 형성함으로써 격벽이 안정적인 구조를 갖도록 한 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법이 제공된다. 본 발명에 의한 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법은, 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법에 있어서, 기판 상에 실리콘 질화막을 형성하는 단계; 실리콘 질화막의 적어도 1구역 이상으로 구별되는 어닐링 영역에 서로 다른 세기로 엑시머 레이저 어닐링을 수행하는 단계; 및 엑시머 레이저로 어닐링된 부분만 남도록 실리콘 질화막을 습식 식각하는 단계를 포함한다.
오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법에 있어서,기판 상에 실리콘 질화막을 형성하는 단계;상기 실리콘 질화막의 적어도 1구역 이상으로 구별되는 어닐링 영역에 서로 다른 세기로 엑시머 레이저 어닐링을 수행하는 단계; 및상기 엑시머 레이저로 어닐링된 부분만 남도록 상기 실리콘 질화막을 습식 식각하는 단계를 포함하는 오엘이디 디스플레이 소자의 격벽 형성 방법.
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