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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2006-0128424 (2006-12-15) | |
공개번호 | 10-2008-0055300 (2008-06-19) | |
등록번호 | 10-1340689-0000 (2013-12-05) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020060128424 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-12-08) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
배향막 형성 방법이 개시되어 있다. 기판에 배향막을 형성하는 단계, 배향 패턴이 형성된 몰드판을 상기 배향막에 밀착시켜 상기 배향막에 배향부를 형성하는 단계 및 상기 몰드판과 밀착된 상기 배향막을 경화시키는 단계를 포함하는 배향막 형성 방법을 포함한다. 배향막의 스크래치 발생 억제, 하나의 배향막에 서로 다른 방향으로 배향 처리 및 배향막에 배향부를 형성하는 도중 파티클 발생을 방지할 수 있는 다양한 효과를 갖는다.
기판에 배향막을 형성하는 단계;배향 패턴이 형성되며 탄성의 중합물질로 이루어진 몰드판을 상기 배향막에 밀착시켜 상기 배향막에 배향부를 형성하는 단계; 및상기 몰드판과 밀착된 상기 배향막을 경화시키는 단계를 포함하고, 상기 배향부를 형성하는 단계 이전에 상기 몰드판을 향해 고압 및 고속의 유체를 분사하고 상기 배향막을 향해 저압 및 저속의 유체를 분사하여 이물질을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 배향막 형성 방법.
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