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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2006-7001791 (2006-01-25) |
공개번호 | 10-2006-0017566 (2006-02-23) |
등록번호 | 10-0597580-0000 (2006-06-29) |
국제출원번호 | PCT/US1998/023021 (1998-10-29) |
국제공개번호 | WO1999023189 (1999-05-14) |
번역문제출일자 | 2006-01-25 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020067001791 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2006-01-31) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명에 따른 연마 조성물은 매우 낮은 공차로 정밀한 연마를 하는데 적합하다. 상기 연마 조성물은 직경 분포가 매우 좁고 작은 직경을 갖는 입자를 포함하고, 실제적으로 평균 직경보다 몇 배 이상의 직경을 갖는 입자는 없다. 또한, 상기 입자는 일반적으로 단결정상을 갖는다는 점에서 균일도가 매우 높다. 바람직한 입자는 약 200 NM이하의 직경을 갖는다. 레이저 열분해 가공은 금속 산화물, 금속 탄화물, 금속 황화물, SIO2 및 SIC를 포함하는 적합한 입자들을 제조한다.
규소 화합물 전구체와, 이 규소 화합물 전구체와는 별개인 산소 공급원, 그리고 방사선 흡수 가스를 포함하는 분자 스트림을 반응실에서 반응시키는 단계를 포함하고, 상기 반응은 방사선 빔으로부터 흡수된 열에 의해 일어나는 것인 SiO2 입자 제조 방법.제1항에 있어서, 상기 방사선 빔은 CO2 레이저에 의해 공급되는 것인 SiO2 입자 제조 방법.제1항에 있어서, 상기 분자 스트림은 한쪽 치수가 큰 노즐에 의해 발생되는 것인 SiO2 입자 제조 방법.제1항에 있어서, 상기 방사선 빔은 레이저에 의해 공급되는 것인 SiO2 입자 제조 방
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