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[한국특허] 이온빔 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01J-037/36
  • H01J-037/317
출원번호 10-2006-7013376 (2006-07-03)
공개번호 10-2006-0105879 (2006-10-11)
등록번호 10-0808081-0000 (2008-02-21)
국제출원번호 PCT/JP2004/018330 (2004-12-02)
국제공개번호 WO2005055271 (2005-06-16)
번역문제출일자 2006-07-03
DOI http://doi.org/10.8080/1020067013376
발명자 / 주소
  • 나이토 마사오 / 일본 교토후 교토시 미나미구 쿠제 토노시로쵸 ***반지 닛신이온기기 가부시기가이샤 나이
  • 후지타 히데키 / 일본 교토후 교토시 미나미구 쿠제 토노시로쵸 ***반지 닛신이온기기 가부시기가이샤 나이
출원인 / 주소
  • 닛신 이온기기 가부시기가이샤 / 일본국 쿄토후 쿄토시 미나미구 쿠제 토노시로쵸 ***반지
대리인 / 주소
  • 신정건; 김태홍 (SHIN, JUNG KUN)
  • 서울 중구 충무로 *가 **-* 극동빌딩 **층(리인터내셔날특허법률사무소); 서울 중구 충무*가동 **-* 극동빌딩 **층
심사청구여부 있음 (2006-07-07)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명에 따른 이온빔 장치는, 이온빔(4)을 추출하는 이온 소스(2)와, 상기 이온 소스(2)로부터 추출된 이온빔(4)에서 원하는 질량의 이온빔(4)을 분리하는 질량 분리 전자석(6)과, 입사된 이온빔(4)을 소정 주사면내에 소정 주사 중심을 중심으로 주사하는 주사기(12)와, 원하는 에너지의 이온빔이 상기 주사 중심에 중심을 둔 원호형 편향 영역 내에서 상기 주사면에 수직한 방향으로 진행하도록, 이온빔을 정전적으로 90°편향시키는 정전 편향기(3), 그리고 타겟(50)을 유지하고, 상기 타켓이 정전 편향기(30)로부터 출사된 이

대표청구항

입사된 이온빔을 소정 주사면내에 소정 주사 중심을 중심으로 주사하는 주사기|원하는 에너지의 이온빔이 상기 주사 중심에 중심을 둔 원호형 편향 영역 내에서 상기 주사면에 수직한 방향으로 진행하도록, 상기 주사기로부터 출사된 이온빔을 정전적으로 90°편향시키는 정전 편향기를 포함하는 이온빔 장치.이온빔을 추출하는 이온 소스|상기 이온 소스로부터 추출된 이온빔에서 원하는 질량의 이온빔을 분리하는 질량 분리 전자석|질량 분리 전자석을 통과한 이온빔을 소정 주사면내에 소정 주사 중심을 중심으로 주사하는 주사기|원하는 에너지의 이온빔이 상기

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [일본] ION IMPLANTING APPARATUS | OGATA SEIJI, KUNIBE TOSHIHISA, YOKOO HIDEKAZU, NISHIBASHI TSUTOMU
  2. [일본] ION IMPLANTING EQUIPMENT | NISHIBASHI TSUTOMU, SAKURADA YUZO

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. [한국] 고에너지 이온주입장치 | 가바사와 미츠아키, 와타나베 가즈히로, 사사키 하루카, 이나다 고오지, 사노 마코토
  2. [한국] 측면 주사가 가능한 전자빔 주사장치 | 임선종, 최지연
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