초록

SIO2 절연막 등의 표면을 흠 없이 고속으로 연마하기 위한 산화세륨 연마제가 개시되어 있다. 이 연마제는 1차 입자경이 10 내지 600 NM이고 1차 입자의 중위 입경이 30 내지 250 NM인 1차 입자를 포함하며, 중위 입경이 150 내지 600 NM이고 최대 직경이 3000 NM 이하인 산화세륨 입자를 매체에 분산시킨 슬러리를 포함한다.

대표청구항 ▼

다수의 1차 입자를 포함하는 산화 세륨 입자를 함유하는 슬러리를 포함하며, 상기 1차 입자는 본질적으로 산화 세륨으로 이루어지고, 30 내지 250 nm의 중위 입경을 가지며, 상기 산화 세륨 입자는 150 내지 600 nm의 중위 입경을 가지며, 탄산 세륨을 소성하여 얻어지는 산화 세륨을 분쇄하여 얻어지는 것인 산화 세륨 연마제.산화 세륨 입자를 포함하는 슬러리를 포함하는 산화 세륨 연마제로,그의 1차 입자가 30 내지 250 nm의 중위 입경 및 600 nm 이하의 1 차 입자 최대 직경을 가지고, 슬러리 입자는 150 내지 6

다수의 1차 입자를 포함하는 산화 세륨 입자를 함유하는 슬러리를 포함하며, 상기 1차 입자는 본질적으로 산화 세륨으로 이루어지고, 30 내지 250 nm의 중위 입경을 가지며, 상기 산화 세륨 입자는 150 내지 600 nm의 중위 입경을 가지며, 탄산 세륨을 소성하여 얻어지는 산화 세륨을 분쇄하여 얻어지는 것인 산화 세륨 연마제.산화 세륨 입자를 포함하는 슬러리를 포함하는 산화 세륨 연마제로,그의 1차 입자가 30 내지 250 nm의 중위 입경 및 600 nm 이하의 1 차 입자 최대 직경을 가지고, 슬러리 입자는 150 내지 600 nm의 중위 입경 및 및 7 내지 45 m2/g의 비표면적을 가지고, 상기 산화 세륨 입자가 매체에 분산되어 있는 것인 산화 세륨 연마제.600 내지 900 ℃의 온도에서 세륨 화합물을 소성하여, 산화 세륨 분말을 얻는 단계|산화 세륨 분말을 분쇄하여, 30 내지 250 nm의 중위 입경 및 600 nm 이하의 1차 입자 최대 입경을 갖는 산화 세륨 입자를 얻는 단계| 및150 내지 600 nm의 중위 입경 및 7 내지 45 m2/g의 비표면적을 갖는 슬러리 입자를 형성시키기 위해 산화 세륨 1차 입자를 매체 중에 분산시키는 단계를 포함하는산화 세륨 연마제의 제조방법.제2항의 산화 세륨 연마제를 이용하여 기판을 연마하는 방법.매체| 및 매체 중 분산된, 1차 입자를 포함하는 산화 세륨 슬러리 입자를 포함하는 슬러리를 포함하는 산화 세륨 연마제로,산화 세륨 슬러리 입자가 (1) 150 내지 600 nm의 중위 입경, 및(2) 0.01 내지 0.70의, 분말 X 선 리트 벨트법(RIETAN-94) 분석법에 의해 얻은 상기 산화 세륨 입자의 등방적 미소변경을 나타내는 구조 파라미터 Y값을 갖는 것인 산화 세륨 연마제.매체| 및 매체 중 분산된, 30 내지 250 nm의 중위 입경을 갖는 1차 입자를 포함하는 산화 세륨 슬러리 입자를 포함하는 슬러리를 포함하는 산화 세륨 연마제로, 상기 슬러리 입자는 150 내지 600 nm의 중위 입경을 가지며, 상기 산화 세륨 슬러리 입자는 - 100 mV 내지 - 10 mV의 제타 전위를 갖는 것인 산화 세륨 연마제.유기 SOG(spin-on glass)막 및 SiO2 막이 형성된 반도체 기판의 표면을 제공하는 단계| 및산화 세륨 연마제로 연마하여 상기 SiO2 막 상의 불활성막을 형성하고, 상기 유기 SOG 막을 선택적으로 연마하는 단계를포함하는 선택적 연마 방법.유기 SOG(spin-on glass)막 및 SiO2 막을 반도체 기판 표면에 형성하는 단계| 및상기 유기 SOG 막을 산화 세륨 연마제로 선택적으로 연마하는 단계를포함하는 반도체 기판의 제조 방법.폴리아크릴산 암모늄염을 함유하는 물 중에 산화 세륨 입자를 분산시켜 형성되는 슬러리를 포함하는 산화 세륨 연마제.제9항에 따른 산화 세륨 연마제로 기판을 연마하는 것을 포함하는 기판 연마 방법.그의 1차 입자가 30 내지 250 nm의 중위 입경을 가지고, 슬러리 입자가 150 내지 600 nm의 중위 입경을 가지며, 3,000 nm의 최대 직경을 가지며, 매체 중에 분산된 산화 세륨 입자를 포함하는 슬러리를 포함하는 산화 세륨 연마제.그의 1차 입자가 100 내지 250 nm의 중위 입경을 가지고, 슬러리 입자가 150 내지 350 nm의 중위 입경을 가지며, 3,000 nm의 최대 직경을 가지며, 매체 중에 분산된 산화 세륨 입자를 포함하는 슬러리를 포함하는 산화 세륨 연마제.그의 1차 입자가 30 내지 70 nm의 중위 입경을 가지고, 슬러리 입자가 250 내지 600 nm의 중위 입경을 가지며, 3,000 nm의 최대 직경을 가지며, 매체 중에 분산된 산화 세륨 입자를 포함하는 슬러리를 포함하는 산화 세륨 연마제.