초록 ▼

본 발명은 반도체장치 식각설비에서 정전척(ESC CHUCK)의 전면에 균일하게 헬륨을 공급하여 정전척을 냉각시키는 반도체 식각설비의 쿨링구조에 관한 것이다.정전척으로 공급되는 헬륨가스를 웨이퍼의 전면에 균일하게 플로우되도록 하여 제품의 표준편차발생을 방지하고 또한 공정불량 및 수율변화가 발생되지 않도록 하기 위한 본 발명의 반도체 식각설비의 정전척 쿨링구조는, 서셉터와, 헬륨가스를 공급하는 메인헬륨 공급라인과, 상기 메인헬륨 공급라인을 통해 공급되는 헬륨가스를 분산 축적하는 제1 헬륨가스 버퍼부와, 상기 서셉터를 수직으로 관통하여

본 발명은 반도체장치 식각설비에서 정전척(ESC CHUCK)의 전면에 균일하게 헬륨을 공급하여 정전척을 냉각시키는 반도체 식각설비의 쿨링구조에 관한 것이다.정전척으로 공급되는 헬륨가스를 웨이퍼의 전면에 균일하게 플로우되도록 하여 제품의 표준편차발생을 방지하고 또한 공정불량 및 수율변화가 발생되지 않도록 하기 위한 본 발명의 반도체 식각설비의 정전척 쿨링구조는, 서셉터와, 헬륨가스를 공급하는 메인헬륨 공급라인과, 상기 메인헬륨 공급라인을 통해 공급되는 헬륨가스를 분산 축적하는 제1 헬륨가스 버퍼부와, 상기 서셉터를 수직으로 관통하여 상기 제1 헬륨가스 버퍼부로부터 축적된 헬륨가스를 분산공급하는 다수의 헬륨공급라인과, 상기 다수의 헬륨공급라인을 통해 공급된 헬륨가스를 축적하는 제2 헬륨가스 버퍼부와, 상기 서셉터의 상부에 형성되어 상기 제2 헬륨가스 버퍼부를 커버링하고 상부면에 웨이퍼가 얹혀지며 상기 웨이퍼로 헬륨가스를 플로우하는 세라믹 퍽을 포함한다. 메인 헬륨공급라인에 병렬로 다수개의 헬륨공급라인을 설치하여 웨이퍼를 냉각시킬 때 웨이퍼 전면에 균일하게 플로우되도록 하여 에칭포인트별로 식각량이 서로 달라지는 현상을 방지하여 품질불량 및 수율변화발생을 방지한다.

대표청구항 ▼

반도체 식각설비의 정전척 쿨링구조에 있어서,서셉터와, 헬륨가스를 공급하는 메인헬륨 공급라인과, 상기 메인헬륨 공급라인을 통해 공급되는 헬륨가스를 분산 축적하는 제1 헬륨가스 버퍼부와, 상기 서셉터를 수직으로 관통하여 상기 제1 헬륨가스 버퍼부로부터 축적된 헬륨가스를 분산공급하는 다수의 헬륨공급라인과, 상기 다수의 헬륨공급라인을 통해 공급된 헬륨가스를 축적하는 제2 헬륨가스 버퍼부와, 상기 서셉터의 상부에 형성되어 상기 제2 헬륨가스 버퍼부를 커버링하고 상부면에 웨이퍼가 얹혀지며 상기 웨이퍼로 헬륨가스를 플로우하는 세라믹 퍽을 포함함

반도체 식각설비의 정전척 쿨링구조에 있어서,서셉터와, 헬륨가스를 공급하는 메인헬륨 공급라인과, 상기 메인헬륨 공급라인을 통해 공급되는 헬륨가스를 분산 축적하는 제1 헬륨가스 버퍼부와, 상기 서셉터를 수직으로 관통하여 상기 제1 헬륨가스 버퍼부로부터 축적된 헬륨가스를 분산공급하는 다수의 헬륨공급라인과, 상기 다수의 헬륨공급라인을 통해 공급된 헬륨가스를 축적하는 제2 헬륨가스 버퍼부와, 상기 서셉터의 상부에 형성되어 상기 제2 헬륨가스 버퍼부를 커버링하고 상부면에 웨이퍼가 얹혀지며 상기 웨이퍼로 헬륨가스를 플로우하는 세라믹 퍽을 포함함을 특징으로 하는 반도체 식각설비의 정전척 쿨링구조.