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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2007-0056842 (2007-06-11) |
등록번호 | 10-0858046-0000 (2008-09-04) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070056842 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-06-11) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
반도체 제조시 프로세스 챔버로부터 펌프로 배출되는 가스 중의 반응부산물을 포집하기 위한 반도체 제조장비용 트랩이 개시된다. 반도체 제조장비용 트랩은 프로세스 챔버와 펌프 사이에 배치되며, 제 1하우징 및 제 2하우징을 포함한다. 제 1하우징에는 프로세스 챔버와 연통하는 가스 유입구, 유입된 가스가 통과하는 내부 공간, 및 가스를 외부로 배출하기 위한 가스 배출구가 제공된다. 제 1하우징 내부에는 유입된 가스가 이동하는 동안 접촉하도록 제 1배플 플레이트가 제공되며, 제 1배플 플레이트에 접촉하는 히터가 제공된다. 제 2하우징에는 제
반도체 제조장비의 프로세스 챔버(10)로부터 펌프(20)로 배출되는 가스 중에 반응부산물을 포집하기 위한 반도체 제조장비용 트랩에 있어서, 상기 프로세스 챔버(10)와 연통하는 가스 유입구(112), 유입된 가스가 통과하는 내부 공간(114), 및 가스를 외부로 배출하기 위한 가스 배출구(116)가 제공된 제 1하우징(110);상기 유입된 가스가 이동하는 동안 접촉하도록 상기 제 1하우징(110) 내에 복수개가 제공되며 구멍(122)이 형성되어 있는 제 1배플 플레이트(120);상기 제 1배플 플레이트(120)를 가열하기 위하여 상
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