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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2007-0068551 (2007-07-09) |
등록번호 | 10-0870120-0000 (2008-11-18) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070068551 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-07-09) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 웨이퍼 전면 및 후면을 세정하기 위한 웨이퍼 세정 장치 및 그의 세정 방법에 관한 것이다. 웨이퍼 세정 장치는 웨이퍼 전면과 후면에 각각 배치되는 제 1 및 제 2 노즐부들을 포함한다. 제 1 노즐부는 웨이퍼 전면으로 세정액을 공급하는 제 1 노즐과, 웨이퍼 전면에 공급된 세정액으로 초음파를 발생하여 세정액을 진동시키는 제 1 소닉 진동자를 포함하고, 제 2 노즐부는 제 2 노즐 내부에 제 2 소닉 진동자를 구비하여, 세정액 공급원으로부터 제 2 노즐 내부로 공급된 세정액을 제 2 노즐 내부에서 진동시키고, 진동된 세정액
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