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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2007-0084736 (2007-08-23) |
| 공개번호 | 10-2009-0020192 (2009-02-26) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020070084736 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2007-08-23) |
| 심사진행상태 | 거절결정(일반) |
| 법적상태 | 거절 |
본 발명은 실리콘 피트(silicon pit)와 같은 결함(defect)을 발생시키는 파티클을 가지고 있는 세정 장비 또는 열처리 장비를 모니터링하여, 결함으로 인한 반도체 소자의 불량을 방지할 수 있는 반도체 장비의 파티클 모니터링 방법에 관한 것이다.이를 위해, 본 발명의 실시예에 따른 세정 장비 및 열처리 장비를 구비하는 반도체 장비의 파티클 모니터링 방법은 결함 여부를 확인하기 위한 테스트용 웨이퍼를 준비하는 테스트용 웨이퍼 준비 단계; 상기 세정 장비를 이용해 상기 테스트용 웨이퍼에 생성된 자연 산화막(native oxid
세정 장비 및 열처리 장비를 구비하는 반도체 장비의 파티클 모니터링 방법에 있어서,결함 여부를 확인하기 위한 테스트용 웨이퍼를 준비하는 테스트용 웨이퍼 준비 단계;상기 세정 장비를 이용해 상기 테스트용 웨이퍼에 생성된 자연 산화막(native oxide)을 제거하는 예비 세정 단계;상기 열처리 장비를 이용해 상기 테스트용 웨이퍼를 열처리하는 고온 열처리 단계; 및상기 테스트용 웨이퍼의 결함 여부를 확인하여, 결함을 유발하는 세정 장비 또는 열처리 장비의 파티클 여부를 검증하는 결함 여부 확인 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도
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