초록

내조의 청정도를 개선하고 웨이퍼의 품질을 개선하는 웨이퍼 세정장치가 개시된다. 본 발명의 웨이퍼 세정장치는 세정액을 저장하는 저장조 및 저장조에 연결되어 세정액을 저장조로 공급하는 공급라인을 포함하고, 공급라인에 의하여 세정액이 저장조에 투입되는 부위는 서로 다른 최소 2지점 이상에서 세정액이 투입된다. 따라서, 저장조 내에 저장된 세정액의 농도를 균일하게 유지할 수 있고, 웨이퍼 상의 파티클을 제거하여 품질을 개선하고 수율을 향상시킬 수 있다.

대표청구항 ▼

웨이퍼를 수용하여, 상기 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정장치에 있어서,세정액을 저장하는 저장조; 및상기 저장조에 연결되어 상기 세정액을 상기 저장조로 공급하는 공급라인;을 포함하고, 상기 공급라인에 의하여 상기 세정액이 상기 저장조에 투입되는 부위는 서로 다른 최소 2지점 이상에서 상기 세정액이 투입되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.상기 투입되는 부위는 상기 저장조에서 서로 대향되는 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.제1항에 있어서,상기 투입되는 부위는 상기 저장조 높이의 중앙에 위치하는 것을 특징으로 하는

웨이퍼를 수용하여, 상기 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정장치에 있어서,세정액을 저장하는 저장조; 및상기 저장조에 연결되어 상기 세정액을 상기 저장조로 공급하는 공급라인;을 포함하고, 상기 공급라인에 의하여 상기 세정액이 상기 저장조에 투입되는 부위는 서로 다른 최소 2지점 이상에서 상기 세정액이 투입되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.상기 투입되는 부위는 상기 저장조에서 서로 대향되는 위치에 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.제1항에 있어서,상기 투입되는 부위는 상기 저장조 높이의 중앙에 위치하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.제1항에 있어서,상기 투입되는 부위는 4개, 6개 및 8개 지점 중 어느 하나로 형성되며, 서로 이웃하는 상기 투입되는 부위는 일정한 간격으로 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.제1항에 있어서,상기 투입되는 부위는 상기 저장조의 둘레면을 따라 소정 길이로 길게 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.제1항에 있어서,상기 저장조의 내부 공간에는 상기 세정액을 유동시키는 유동팬이 구비되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.제1항에 있어서,상기 공급라인은 상기 세정액을 여과하는 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.웨이퍼를 세정하는 약액을 저장하여 세정작업을 수행하는 내조;상기 내조의 외측에 형성되어 상기 내조에서 오버플로우된 상기 약액을 수용하는 외조; 및상기 내조와 상기 외조를 연결하되 상기 외조에 저장된 상기 약액을 상기 내조로 순환 공급하는 순환라인;을 포함하고, 상기 순환라인에 의하여 상기 약액이 상기 외조에 투입되는 부위는 서로 다른 최소 2지점 이상에서 상기 약액이 투입되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.제8항에 있어서,상기 내조 및 외조는 분리 가능하게 결합되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.제8항에 있어서,상기 투입되는 부위는 노즐로 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.웨이퍼의 표면에 남은 약액을 제거하기 위한 웨이퍼 세정장치에 있어서,상기 웨이퍼에서 상기 약액을 제거하기 위한 린스액을 공급하는 린스액 공급부;상기 웨이퍼를 수납하고, 상기 린스액을 공급받아 저장하는 린스액저장부; 및상기 린스 공급부와 상기 린스액 저장부를 연결하되, 상기 린스액 저장부로 상기 린스액을 투입하는 부위가 서로 다른 위치의 적어도 2 지점 이상에서 형성되는 공급라인;을 포함하는 웨이퍼 세정장치.제11항에 있어서,상기 린스액은 초순수를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.