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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0024838 (2014-03-03) | |
공개번호 | 10-2015-0103410 (2015-09-11) | |
등록번호 | 10-1568860-0000 (2015-11-06) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140024838 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-03-03) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 반도체 웨이퍼 또는 LCD(Liquid Crystal Display) 기판 등의 세정 시 고효율의 세정효과, 높은 생산성 유지, 낮은 유지보수비용(CoO), 친환경 적인 요소를 충족시킴과 아울러, 정전기적 전하에 따른 재오염 및 손상을 방지하면서 반도체 디바이스의 특성 및 수율에 치명적인 영향을 미치는 오염물을 효과적으로 제거하기 위한 반도체 세정 장치의 구성 중 전해질 용액을 전해조 측으로 정량 공급하기 위한 전해질 용액 공급 장치에 관한 것으로, 전해질 용액을 전해조로 공급하기 위한 공급로 상의 미터링 펌프 후단에 유
반도체 세정 장치의 전해조로 전해질 용액을 정량으로 공급하기 위한 장치로서, 전해질 용액을 저장하기 위한 저장 탱크;상기 저장 탱크의 일측에 연결되어 전해질 용액의 공급로를 형성하는 공급 배관;상기 공급 배관으로부터 분기되어 전해질 용액의 배출로를 형성하는 배출 배관;상기 배출 배관 상에 설치되어 전해질 용액의 배출을 자동으로 제어하기 위한 제1 밸브;상기 공급 배관 상에 설치되어 전해질 용액의 공급을 자동으로 제어하기 위한 제2 밸브;상기 공급 배관 상의 상기 제2 밸브의 후단에 설치되어 상기 저장 탱크내의 전해질 용액을 상기 공
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