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정전척(ESC) 패드 재생용 마스크 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-021/687
출원번호 10-2007-0139766 (2007-12-28)
공개번호 10-2009-0071848 (2009-07-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020070139766
발명자 / 주소
  • 안교준 / 경기 여주군 가남면 신해리 동남아파트 ***-****
출원인 / 주소
  • 주식회사 동부하이텍 / 서울특별시 강남구 대치동 ***-**
대리인 / 주소
  • 박영복; 김용인 (YOUNG-BOK PARK)
  • 서울 송파구 잠실동 ***-* 현대빌딩 *층(***특허법률사무소); 서울 송파구 잠실동 ***-* 현대빌딩 *층 ((***특허법률사무소)
심사청구여부 있음 (2007-12-28)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

정전척과 웨이퍼 사이에 사용되는 정전척 패드를 저렴하고 빠르게 재생할 수 있는 마스크가 제안되다. 이 정전척 패드 재생용 마스크는 하나의 판에 복수개의 정전척 패드 패턴들을 포함하고 상기 판은 내주면과 외주면을 갖는다. 상기 내주면과 외주면은 상기 정천적에 안정적으로 고정될 수 있도록 두께에 있어서 단차를 갖고 형성된다.

대표청구항

하나의 판에 복수개의 정전척 패드 패턴들을 포함하고 상기 판은 내주면과 외주면을 갖으며, 상기 내주면과 외주면은 상기 정천적에 안정적으로 고정될 수 있도록 두께에 있어서 단차를 갖고 형성 됨을 특징으로 하는 정전척 패드 재생용 마스크.제 1 항에 있어서, 상기 마스크는 원형임을 특징으로 하는 정전척 패드 재생용 마스크.제 2 항에 있어서, 상기 내주면의 내경 지름은 194mm이고 상기 외주면의외경 지름은 216.20mm임을 특징으로 하는 정전척 패드 재생용 마스크.제 1 항에 있어서, 상기 두께 단차는 약 2mm 임을 특징으로 하는

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [미국] Method and apparatus for fabricating a wafer spacing mask on a substrate support chuck | Flanigan Allen
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