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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2007-7018274 (2007-08-09) |
공개번호 | 10-2007-0107029 (2007-11-06) |
등록번호 | 10-1153677-0000 (2012-05-30) |
국제출원번호 | PCT/JP2006/302575 (2006-02-08) |
국제공개번호 | WO2006085663 (2006-08-17) |
번역문제출일자 | 2007-08-09 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020077018274 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2010-08-16) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 합성 석영 유리제 기판과 해당 기판의 표면에 적층된 차광막을 구비하고, 노광 파장이 200 ㎚ 이하인 반도체 소자 제조 기술에 사용되는 마스크 블랭크이며, 상기 마스크 블랭크의 복굴절이 파장 193 ㎚에서 기판 두께당 1 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크를 제공한다. 본 발명에 따르면, 액침 노광 기술 및 편광 조명 기술에서 사용하기에 적절한 마스크 블랭크가 제공된다.
합성 석영 유리제 기판과 해당 기판의 표면에 적층된 차광막을 구비하고, 노광 파장이 200 ㎚ 이하인 반도체 소자 제조 기술에 사용되는 마스크 블랭크이며, 상기 마스크 블랭크의 복굴절이 파장 193 ㎚에서 기판 두께 6.35 ㎜당 1 ㎚ 이하이고, 합성 석영 유리 중의 OH기 농도가 100 ppm 이하이고, 합성 석영 유리 중의 염소 농도가 10 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.
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