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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0043535 (2019-04-15) | |
공개번호 | 10-2020-0121044 (2020-10-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190043535 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명에 따른 위상반전 블랭크 마스크는, 투명 기판 상에 적어도 구비된 위상반전막을 포함하며, 상기 위상반전막은 노광 파장에서 30% 내지 100%의 투과율과, 150°내지 240°의 위상량을 갖는다. 본 발명은 투명 기판 상에 30% 이상의 초고투과율을 가지는 위상반전막을 형성된 블랭크 마스크로서, Exposure Latitude, DoF Margin등이 우수한 블랭크 마스크를 제공한다. 이를 통해 우수한 품질을 가지는 포토마스크 제조가 가능하다
투명 기판 상에 적어도 구비된 위상반전막을 포함하며, 상기 위상반전막은 노광 파장에서 30% 내지 100%의 투과율과, 150°내지 240°의 위상량을 갖는 것을 특징으로 하는 위상반전 블랭크 마스크.
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