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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2007-7024329 (2007-10-23) |
공개번호 | 10-2007-0121014 (2007-12-26) |
국제출원번호 | PCT/US2006/009885 (2006-03-17) |
국제공개번호 | WO2006104736 (2006-10-05) |
번역문제출일자 | 2007-10-23 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020077024329 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2007-11-20) |
심사진행상태 | 원결정유지(심사전치) |
법적상태 | 거절 |
RF 전력 생성기의 출력과 플라즈마 챔버의 입력 사이에 연결된 2차 리액티브 종단 회로가 제공되어 공정 플라즈마 내에서의 2차 주파수의 전압 및 전류 컴포넌트를 엄격하게 조절 또는 제한하도록 한다. 2차 리액티브 회로는 시스템에서 2차 주파수에 의해 나타나는 바와 같이 RF 전력 생성기의 주요 주파수에서 주로 동작하도록 설계된, 매칭 네트워크의 임피던스를 제어한다. 전력 전달 컴포넌트가 종단 회로의 연결점에서 측정되어 종단 회로 컴포넌트의 가변 값을 제어하기 위한 피드백 신호로서 사용된다.
플라즈마로 RF 전력을 전달하기 위한 시스템에서,A) 플라즈마 챔버 내의 플라즈마에 전력을 전달하도록 배치된 RF 전력 생성기;B) RF 전력 생성기의 출력에 배치되어, 생성기의 주요 동작 주파수에서 RF 전력 생성기로부터 플라즈마로 전력의 유효한 전달을 제공하는 임피던스 매칭 네트워크; 및C) RF 전력 생성기 및 플라즈마 챔버의 사이에 배치되어, 플라즈마 내에서 하나 이상의 2차 주파수에서의 플라즈마로의 전력 전달을 조절하는 종단 회로를 포함하는 시스템.제1항에 있어서, 종단 회로는 리액티브(REACTIVE) 회로인 시스템.제2
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