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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2008-0019020 (2008-02-29) |
등록번호 | 10-0860269-0000 (2008-09-19) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080019020 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-02-29) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 반도체 제조 공정 중 단일 웨이퍼 공정에 있어서 웨이퍼의 세정 상태를 관리하기 위해 세정 공정에 사용된 세정 용액 내 오염 금속의 농도를 모니터링하기 위한 웨이퍼 세정액 온라인 모니터링 방법, 웨이퍼 세정액 온라인 모니터링 장치 및 상기 장치에 사용되는 시약 용기에 관한 것으로, 본 발명의 목적은 장치의 내구성을 확보하며, 발색 시약의 변색을 방지하고, 측정 신호를 개선하여 측정의 안정성을 유지할 수 있는, 순차주입분석법을 이용한 웨이퍼 세정액 온라인 모니터링 방법, 웨이퍼 세정액 온라인 모니터링 장치 및 상기 장치에 사
반도체 제조를 위한 단일 웨이퍼 공정(SWP) 장치(200)의 웨이퍼 세정 공정에서 발생되는 세정액의 오염 상태를 모니터링하는 제어부를 포함하여 이루어지는 웨이퍼 세정액 온라인 모니터링 장치(100)에 의한 웨이퍼 세정액 온라인 모니터링 방법에 있어서,a) 상기 제어부가 상기 웨이퍼 세정액 온라인 모니터링 장치(100)를 대기 상태로 유지하는 단계(S01);b) 상기 제어부가 상기 단일 웨이퍼 공정 장치(200)에서 세정 공정이 시작되었음을 감지하는 단계(S02-Yes);c) 상기 제어부가 상기 웨이퍼 세정액 온라인 모니터링 장치(
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