최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC9판) |
|
출원번호 | 10-2008-0041950 (2008-05-06) |
공개번호 | 10-2009-0116176 (2009-11-11) |
등록번호 | 10-1022923-0000 (2011-03-09) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080041950 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2008-05-06) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 금속 도금액 중 고분자 첨가제의 정성 분석방법 및 장치에 관한 것으로, 금속 도금액 중 존재하는 황산 이온 및 금속 이온을 제거하는 단계; 및 상기 황산 이온 및 금속 이온이 제거된 도금액을 말디토프 질량분석법(MALDI-TOF MS: Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-Of-Flight Mass Spectroscopy)을 이용하여 정성 분석하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명의 방법에 따르면, 도금액 중에 존재하는 미량의 고분자 첨가제를 분해시키지 않고 고
금속 도금액 중 존재하는 황산 이온 및 금속 이온을 제거하는 단계; 및 상기 황산 이온 및 금속 이온이 제거된 도금액을 말디토프 질량분석법(MALDI-TOF MS: Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization Time-Of-Flight Mass Spectroscopy)을 이용하여 정성 분석하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 도금액 중 고분자 첨가제의 정성 분석방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.