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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0112070 (2008-11-12) |
공개번호 | 10-2010-0053091 (2010-05-20) |
등록번호 | 10-1043830-0000 (2011-06-16) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080112070 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-11-12) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
서로 다른 청정도를 갖는 클린룸 사이에서 기류 발생을 억제하고 미세부유입자(airborn particle)를 조절하여 청정도를 유지할 수 있는 반도체 제조 설비가 개시된다.반도체 제조 설비는, 제1 처리실, 상기 제1 처리실보다 청정도가 높은 제2 처리실, 웨이퍼가 수용된 캐리어를 이송하는 이송롤러가 구비되고, 상기 제1 처리실과 상기 제2 처리실 사이에서 상기 캐리어를 이송하는 로딩부 및 상기 이송롤러 하부에 구비되어 상기 로딩부 내부의 공기를 상기 이송롤러의 하부를 통해 상기 로딩부 외부로 배기시키는 파티클 제어부를 포함하여 이
제1 처리실;제2 처리실;웨이퍼가 수용된 캐리어를 이송하는 이송롤러가 구비되고, 상기 제1 처리실과 상기 제2 처리실 사이에서 상기 캐리어를 이송하는 로딩부; 및 일단이 상기 이송롤러 하부와 연통되고 타단이 상기 로딩부 하부를 관통하여 외부로 연장 형성되어, 상기 이송롤러 하부에서 상기 로딩부 내부의 공기를 흡입하여 상기 로딩부 외부로 배기시키는 덕트부를 포함하는 파티클 제어부;를 포함하는 반도체 제조 설비.
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