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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0098172 (2009-10-15) |
공개번호 | 10-2011-0041128 (2011-04-21) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090098172 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 h-line(405nm) 파장을 이용하여 고감도, 고해상도의 패턴을 형성하는데 적합한 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 포토레지스트 조성물은 특별한 화학구조를 지닌 가교결합제를 도입함으로써, h-line 광원을 사용하는 경우에도 고감도를 나타내며, 우수한 패턴형상을 제공한다.
(A) 알칼리 가용성 수지; (B) 광중합성 화합물; (C) 광중합개시제; (D) 화학식 1로 표시되는 화합물; 및 (E) 용매를 포함하는 포토레지스트 조성물:[화학식1]상기 식에서 X는 -NR5R6 또는 C5~C12의 아릴이고, R1 내지 R6는 각각 독립적으로 수소원자, -CH2OH 및 -CH2OR7로부터 선택되며, R7는 C1~C5의 알킬이다.
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