최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
출원번호 | 10-2009-0105468 (2009-11-03) |
공개번호 | 10-2010-0050415 (2010-05-13) |
등록번호 | 10-1655790-0000 (2016-09-02) |
우선권정보 | 미국(US) 12/264,928 (2008-11-05) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090105468 |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2014-10-31) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 물; 평균 입경이 ≤50 nm인 콜로이드상 실리카 연마 입자 1 내지 40 wt%; 및 사차 암모늄 화합물 0 내지 5 wt%를 포함하고, 산화제 및 킬레이트제를 함유하지 않으며, pH가 >6 내지 12인화학 기계 연마 조성물을 사용하여, 게르마늄-안티몬-텔루르 칼코게나이드 상변화 합금을 포함하는 기판을 화학 기계 연마하는 방법을 제공한다.
게르마늄-안티몬-텔루르 상변화 합금인 칼코게나이드 상변화 합금을 포함하는 기판을 제공하고;물, 평균 입경이 ≤50 nm인 콜로이드상 실리카 연마제 1 내지 40 wt%, 및 사차 암모늄 화합물 0.01 내지 5 wt%를 포함하고, 산화제 및 킬레이트제를 함유하지 않으며, 6을 초과하고 12 이하인 pH를 갖는, 화학 기계 연마 조성물을 제공하며;화학 기계 연마 패드를 제공하고;화학 기계 연마 패드와 기판 사이의 계면에 동적 접촉을 일으키고;화학 기계 연마 패드와 기판 사이의 계면 또는 그 가까이에서 화학 기계 연마 조성물을 화학 기
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.