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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2009-0122022 (2009-12-09) |
| 공개번호 | 10-2011-0065149 (2011-06-15) |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020090122022 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 CMP 클리너에 관한 것으로서, 상세하게는 노즐이 설치된 화학약품 헤더를 전후로 왕복운동이 가능하게 설계하여 화학약품이 웨이퍼에 전체적으로 고르게 분사되어 웨이퍼 세정효과를 극대화시킬 수 있는 이동식 노즐을 갖춘 CMP 클리너에 관한 것이다.본 발명에 의한 이동식 노즐을 갖춘 CMP 클리너은 화학약품이 분사되는 다수의 노즐이 형성되어 있는 적어도 하나 이상의 화학약품 헤더, 상기 노즐에서 분사되는 화학약품을 이용하여 웨이퍼를 세정하는 적어도 하나이상의 브러쉬 및 상기 화학약품 헤더를 전후로 왕복운동을 시키기 위한 구동부를
CMP 공정에서 사용되는 CMP 클리너에 있어서,상기 클리너는 화학약품이 분사되는 다수의 노즐이 형성되어 있는 적어도 하나 이상의 화학약품 헤더,상기 노즐에서 분사되는 화학약품을 이용하여 웨이퍼를 세정하는 적어도 하나이상의 브러쉬 및상기 화학약품 헤더를 전후로 왕복운동을 시키기 위한 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 이동식 노즐을 갖춘 CMP 클리너.
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