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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0125352 (2009-12-16) |
공개번호 | 10-2011-0068409 (2011-06-22) |
등록번호 | 10-1123968-0000 (2012-02-28) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090125352 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-12-16) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 손상된 DLC층과 실리콘층을 제거한 후, 새로 실리콘층과 글래스층을 형성함으로써, 손상된 정전척을 폐기하지 않고 다시 재생하여 사용할 수 있는 정전척의 재생 방법에 관한 것이다.이를 위해, 본 발명의 실시예에 따른 정전척의 재생 방법은 바디층, 절연층, 제 1 실리콘층 및 DLC층이 차례로 증착되어 형성된 정전척에 있어서, 적어도 상기 DLC층이 에싱된 정전척을 준비하는 정전척 준비 단계; 상기 DLC층 및 제 1 실리콘층을 제거하는 DLC층 및 제 1 실리콘층 제거 단계; 상기 절연층의 상부에 제 2 실리콘층을 형성하는
바디층, 절연층, 제 1 실리콘층 및 DLC층이 차례대로 증착되어 형성된 정전척 재생 방법에 있어서,적어도 상기 DLC층이 에싱된 정전척을 준비하는 정전척 준비 단계;상기 DLC층 및 제 1 실리콘층을 제거하는 DLC층 및 제 1 실리콘층 제거 단계;상기 절연층의 상부에 제 2 실리콘층을 형성하는 제 2 실리콘층 형성 단계; 및상기 제 2 실리콘층의 상부에 글래스층을 형성하는 글래스층 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척 재생 방법.
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