[특허]정전척 재생 방법

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정전척 재생 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)	H01L-021/687
출원번호	10-2009-0125352 (2009-12-16)
공개번호	10-2011-0068409 (2011-06-22)
등록번호	10-1123968-0000 (2012-02-28)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020090125352
발명자 / 주소	이문기 / 경기도 수원시 권선구 덕영대로**번길 -, 동 *호 (권선동, 대림아파트) 김병기 / 경기도 수원시 권선구 덕영대로번길 -, 동 *호 (권선동, 대림아파트) 고영민 / 경기도 화성시 병점로 *, 주공아파트 동 ***호 (병점동)
출원인 / 주소	아이원스 주식회사 / 경기도 화성시 동탄지성로*번길 -* (반월동)
대리인 / 주소	서경민; 서만규
심사청구여부	있음 (2009-12-16)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	소멸

초록 ▼

본 발명은 손상된 DLC층과 실리콘층을 제거한 후, 새로 실리콘층과 글래스층을 형성함으로써, 손상된 정전척을 폐기하지 않고 다시 재생하여 사용할 수 있는 정전척의 재생 방법에 관한 것이다.이를 위해, 본 발명의 실시예에 따른 정전척의 재생 방법은 바디층, 절연층, 제 1 실리콘층 및 DLC층이 차례로 증착되어 형성된 정전척에 있어서, 적어도 상기 DLC층이 에싱된 정전척을 준비하는 정전척 준비 단계; 상기 DLC층 및 제 1 실리콘층을 제거하는 DLC층 및 제 1 실리콘층 제거 단계; 상기 절연층의 상부에 제 2 실리콘층을 형성하는

대표청구항

바디층, 절연층, 제 1 실리콘층 및 DLC층이 차례대로 증착되어 형성된 정전척 재생 방법에 있어서,적어도 상기 DLC층이 에싱된 정전척을 준비하는 정전척 준비 단계;상기 DLC층 및 제 1 실리콘층을 제거하는 DLC층 및 제 1 실리콘층 제거 단계;상기 절연층의 상부에 제 2 실리콘층을 형성하는 제 2 실리콘층 형성 단계; 및상기 제 2 실리콘층의 상부에 글래스층을 형성하는 글래스층 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척 재생 방법.

이 특허에 인용된 특허 (2)

[한국] 반도체 제조 공정에서 사용되는 정전척 | 민병곤
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[미국] Electrostatic Chuck With Anti-Reflective Coating, Measuring Method and Use of Said Chuck | Kalkowski, Gerhard, Stenzel, Olaf, Stockl, Wieland
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특허 원문 보기

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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