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연합인증

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[한국특허] 실리콘막용 ＣＭＰ 슬러리 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C09K-003/14
출원번호 10-2009-7017743 (2009-08-26)
공개번호 10-2010-0014849 (2010-02-11)
국제출원번호 PCT/JP2008/051876 (2008-02-05)
국제공개번호 WO2008105223 (2008-09-04)
번역문제출일자 2009-08-26
DOI http://doi.org/10.8080/1020097017743
발명자 / 주소
  • 나리타 타케노리 / 일본국 이바라기켄 히다치시 히가시쵸 *쵸메 **반 *고 히다치가세고교 가부시끼가이샤나이
  • 니시야마 마사야 / 일본국 이바라기켄 히다치시 히가시쵸 *쵸메 **반 *고 히다치가세고교 가부시끼가이샤나이
  • 아시자와 토라노스케 / 일본국 이바라기켄 히다치시 히가시쵸 *쵸메 **반 *고 히다치가세고교 가부시끼가이샤나이
출원인 / 주소
  • 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 / 일본국 토쿄도 신쥬구구 니시신주구 *쵸오메 *반 *고
대리인 / 주소
  • 특허법인 원전
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

반도체소자의 제조비용 저감, 수율 향상이 가능한, 셀프얼라인먼트 방식에 의한 콘택트 플러그 형성을 위한 CMP를, 1종류의 슬러리로 실시하기 위해서 필요한, 실리콘막, 실리콘 질화막, 실리콘 산화막의 연마 속도와 연마 속도비가 얻어지는 실리콘막용 CMP 슬러리이며, 연마 입자, 양이온성 계면활성제 및 물을 함유하여 이루어지는 pH6.0~8.0의 실리콘막용 CMP 슬러리이다.

대표청구항

연마 입자, 양이온성 계면활성제 및 물을 함유하여 이루어지는 pH6.0~8.0의 실리콘막용 CMP 슬러리.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [일본] WATER DISPERSED ELEMENT FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE | NISHIMOTO KAZUO, SAKANO TATSUAKI, TAKEMURA AKIHIRO, HATTORI MASAYUKI, KAWAHASHI NOBUO, MIYASHITA NAOTO, SHIGETA ATSUSHI, MATSUI YOSHITAKA, IDA KAZUHIKO
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  2. [일본] WATER DISPERSE FORM FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD | IKEDA NORIHIKO, NISHIMOTO KAZUO, HATTORI MASAYUKI, KAWAHASHI NOBUO
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