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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2009-7024641 (2009-11-26) | |
공개번호 | 10-2010-0017384 (2010-02-16) | |
등록번호 | 10-1426980-0000 (2014-07-30) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2007-137012 (2007-05-23) | |
국제출원번호 | PCT/JP2008/059387 (2008-05-21) | |
국제공개번호 | WO 2008/143302 (2008-11-27) | |
번역문제출일자 | 2009-11-26 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020097024641 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-04-23) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 (A) 수지, (B) 부틸에테르기를 갖는 가교제 및 (C) 용제를 함유하는 레지스트 하층막 형성용 조성물에 관한 것이다.
(A) 수지, (B) 부틸에테르기를 갖는 가교제 및 (C) 용제를 함유하며, 상기 (A) 수지가 하기 화학식 3 내지 6으로 표시되는 구조 단위의 군에서 선택되는 1개 이상의 구조 단위를 갖는 중합체로 이루어지는 것인 레지스트 하층막 형성용 조성물. <화학식 3>〔R3은 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타내고, R4, R5는 서로 독립적으로 1가의 원자 또는 1가의 유기기를 나타냄〕<화학식 4>〔R6, R7은 서로 독립적으로 1가의 원자 또는 1가의 유기기를 나타냄〕<화학식 5>〔R8은 수소 원자
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