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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-7024756 (2009-11-27) |
공개번호 | 10-2010-0025515 (2010-03-09) |
국제출원번호 | PCT/US2008/064670 (2008-05-23) |
국제공개번호 | WO2008150739 (2008-12-11) |
번역문제출일자 | 2009-11-27 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020097024756 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 플라즈마 공정에서 처리 균일성을 개선하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 플라즈마 공정 동안 소재(30)의 외부 주변 가장자리 주위로 연장하는 희생체(104)는 플라즈마 제거 가능한 물질로 구성된다. 희생체(104)는 원형의 기하학적 형상을 한정하도록 배열된 다수의 영역(168, 170)들을 포함할 수 있다. 희생체(104)는 소재(30)의 유효 외경을 증가시키도록 기능하고, 이러한 것은 소재(30)의 외부 주변 가장자리(31) 가까이에서 에칭 속도를 효과적으로 감소시키는 것에 의해 플라즈마 공정에 대해 고유한 유해
외부 주변 가장자리를 가지는 소재를 플라즈마 처리하는데 사용하기 위한 장치로서, 플라즈마 제거 가능한 물질로 구성되며, 상기 소재의 외경이 효과적으로 증가되도록 상기 소재의 외부 주변 가장자리 주위에 배열되는데 적합한 희생체(sacrificial body)를 포함하는, 플라즈마 처리에 사용하기 위한 장치.
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