최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
---|---|
국제특허분류(IPC9판) |
|
출원번호 | 10-2010-0014431 (2010-02-18) |
공개번호 | 10-2011-0094808 (2011-08-24) |
등록번호 | 10-1109551-0000 (2012-01-18) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100014431 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
심사청구여부 | 있음 (2010-02-18) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 반도체 제조공정시 사용되어 배출되는 환경유해성 용매와 미세입자를 다량으로 포함하는 오염폐수를 처리하는 반도체 오염폐수 처리장치에 관한 것이다.본 발명의 반도체 오염폐수 장치는, 반도체 공정시 사용되어 배출되는 반도체 오염폐수에 이온을 공급하여 오염폐수 내에 미세하게 존재하는 미세입자를 조대화시키는 정전처리부가 설치된 조대화장치와; 상기 조대화장치에서 조대화된 조대입자를 원심력을 이용하여 분리시키는 사이클론 분리기를 포함하도록 구성된 것이다.
반도체 공정시 사용되어 배출되는 반도체 오염폐수에 이온을 공급하여 오염폐수 내에 존재하는 미세입자를 조대화시키는 정전처리부가 설치된 조대화장치와;상기 조대화장치에서 조대화된 조대입자를 원심력을 이용하여 분리시키는 사이클론 분리기를 포함하며,상기 사이클론 분리기의 배출구 측에는 여과필터가 더 설치되고,상기 여과필터에는 액체 또는 기체를 고압으로 역분사시켜 여과필터에 부착되어 있는 미세입자를 탈락시킴으로써 여과필터를 재생키는 여과필터 재생장치가 설치됨을 특징으로 하는 반도체 오염폐수 처리장치.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.