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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0139651 (2020-10-26) | |
공개번호 | 10-2022-0055329 (2022-05-03) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200139651 | |
발명자 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
반도체 공정 폐수 처리 시스템 및 이를 이용한 반도체 공정 폐수 처리 방법에 관해 개시되어 있다. 개시된 반도체 공정 폐수 처리 시스템은 반도체 공정 폐수를 투입하여 복수의 단계를 거쳐 처리하는 바덴포(Bardenpho) 공정부 및 상기 바덴포 공정부를 통과한 상기 반도체 공정 폐수를 여과하기 위한 세라믹 나노 멤브레인을 구비한 멤브레인 여과조를 포함할 수 있고, 상기 세라믹 나노 멤브레인은 탄소계 나노물질(carbon-based nanomaterial)을 구비할 수 있다. 상기 세라믹 나노 멤브레인은 상기 탄소계 나노물질로서 그래
반도체 공정 폐수 처리 시스템에 있어서, 반도체 공정 폐수를 투입하여 복수의 단계를 거쳐 처리하는 바덴포(Bardenpho) 공정부; 및 상기 바덴포 공정부를 통과한 상기 반도체 공정 폐수를 여과하기 위한 세라믹 나노 멤브레인을 구비한 멤브레인 여과조를 포함하고, 상기 세라믹 나노 멤브레인은 탄소계 나노물질(carbon-based nanomaterial)을 구비하는, 반도체 공정 폐수 처리 시스템.
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